工作方式	振動研磨機	加工批量	50 - 500mlL
類型	轉(zhuǎn)軸式研磨機	驅(qū)動方式	撞擊力,摩擦力
驅(qū)動功率	1500WKW	適用物料	對硬性、中硬性、脆性,軟性、彈性、纖維質(zhì)材料的細粉碎和精細研磨
研磨籃容量	50 - 500ml?（可選）L	應(yīng)用領(lǐng)域	地質(zhì)學(xué)、礦物學(xué)、陶瓷工業(yè)、化工、生物學(xué)、制藥業(yè)、礦物學(xué)研究、建筑行業(yè)、冶金、電子
重量	150kg	作用對象	其他

HS400行星式球磨儀是一臺穩(wěn)定，高性能的儀器，可將樣品研磨至微米/納米級別。該儀器適合對軟性、中硬性、硬性、脆性樣品進行研磨（干磨或濕磨）及混合處理，且研磨結(jié)果均勻具有可重復(fù)性，適用于地礦，土壤，冶金，電子，電力，材料，化工，醫(yī)藥，美容，環(huán)保，陶瓷，玻璃，核研究等科研和產(chǎn)業(yè)部門。

詳細介紹

※溫馨提示※

本產(chǎn)品價格僅為參考價格，由于儀器配置不同，檢測樣品種類不一樣，對儀器的要求也不同，所以展示的價格并不是最終的價格，如給您帶來不便請諒解。

請您在購買前聯(lián)系我們的客服人員，我公司技術(shù)團隊和您確認(rèn)儀器性能，檢測要求以及報價，謝謝您的支持和肯定！

HS400行星式球磨儀

產(chǎn)品簡介：

HS400高性能型行星式球磨儀是一臺穩(wěn)定，高性能的儀器，可將樣品研磨至微米/納米級別。該儀器適合對軟性、中硬性、硬性、脆性樣品進行研磨（干磨或濕磨）及混合處理，且研磨結(jié)果均勻具有可重復(fù)性，適用于地礦，土壤，冶金，電子，電力，材料，化工，醫(yī)藥，美容，環(huán)保，陶瓷，玻璃，核研究等科研和產(chǎn)業(yè)部門。

應(yīng)用：

HS400高性能型行星式球磨儀適用于地質(zhì)學(xué)、礦物學(xué)、陶瓷工業(yè)、化工、生物學(xué)、制藥業(yè)、礦物學(xué)研究、建筑行業(yè)、冶金、電子工業(yè)、玻璃工業(yè)、核研究、材料研究、土壤研究、光譜及X熒光分析。

理化分析前處理、膠體研磨、新型材料和機械合金的制備等方面。

粉碎、混合、均化、膠體碾磨、機械合金

陶瓷工業(yè)：燒結(jié)陶瓷、電陶瓷、黏土等

建筑行業(yè)：礦渣、石料、水泥等

工作原理：

當(dāng)儀器啟動后，電動馬達帶動儀器公共的太陽輪轉(zhuǎn)動，而位于太陽輪上偏心位置的研磨罐則與太陽輪作反向的自轉(zhuǎn)運動，而研磨罐、研磨球、樣品，在太陽輪的公轉(zhuǎn)與研磨罐的反向自轉(zhuǎn)的運動，同時受到受到旋轉(zhuǎn)偏向力的疊加影響下，研磨球產(chǎn)生大量的動能，研磨球與樣品會會沿著不同的運行軌跡運行，產(chǎn)生了不斷地強撞擊摩擦的組合從而達到高效能的研磨粉碎的效果。

儀器特點：

大液晶觸摸屏控制，正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)、時間設(shè)定、程序設(shè)定方便，可進行正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)、時間等程序設(shè)定。

大液晶觸摸屏顯示，運行狀態(tài)一目了然，運行過程隨時可改變，曲線顯示。

控制模式：手動運行和全自動運行

安全方面：

(1)帶電子監(jiān)控裝置，馬達超負(fù)荷自動停止

(2)行星輪采用雙鎖緊方式：高壓入槽然后底部螺絲帽鎖死。輸入能力再大也無法脫節(jié)，杜絕意外發(fā)生。

(3)升降蓋附帶電子鎖，安全、可靠，艙門開啟時球磨儀無法運轉(zhuǎn)

(4)球磨罐固定把手內(nèi)置防退齒輪設(shè)計，即使高速運轉(zhuǎn)也無法使把手松懈。卸罐時，只需要提起卸閥器就可以輕松卸下球磨罐

技術(shù)特點：

強勁及快速研磨，達到納米級細度

適合長時間制樣及連續(xù)運行

轉(zhuǎn)速可調(diào)，運行平穩(wěn)

控制模式：全自動運行

研磨室密封防塵設(shè)計，帶觀察窗

一次可處理多達8種樣品

輸入能量和轉(zhuǎn)速的控制，使研磨結(jié)果具有高度的可重復(fù)性

兩種不同的研磨模式（干磨和濕磨）

多種材料的研磨罐、通氣罐可選

大液晶觸摸屏操作顯示，程序設(shè)定方便

超低噪音，運轉(zhuǎn)噪音低，環(huán)保

根據(jù)實驗要求選配真空和溫度無線接收、顯示系統(tǒng)

技術(shù)參數(shù)：

型號	HS400
研磨方式	干磨或者濕磨
控制模式	全自動運行
程序設(shè)定	正轉(zhuǎn)反轉(zhuǎn)、轉(zhuǎn)速、時間的設(shè)定
進樣尺寸	≤15mm
出粒細度	最小出粒≤0.1μm（膠體研磨）
研磨平臺	4個
轉(zhuǎn)速	20-400轉(zhuǎn)/分鐘（液晶屏顯示）
研磨罐容量	50 - 500ml （可選）
研磨時間設(shè)定	1-99h59min（液晶屏顯示）