當(dāng)前位置：深圳市科晶智達(dá)科技有限公司>>薄膜制備>>等離子鍍膜設(shè)備>>VTC-1RF-1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

VTC-1RF-1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

返回列表頁

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品牌

廠商性質(zhì)其他

所在地

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品

聯(lián)系方式：廖勝眉查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2023-01-12 09:30:01瀏覽次數(shù)：376次

聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng)

產(chǎn)品分類 品牌分類

  科晶新品 What's New

扣式電池研究

軟包電池研究

高通量設(shè)備

*材料研究

超極電容研究

圓柱電池研究
  研磨拋光設(shè)備

研磨拋光耗材

研磨拋光輔助設(shè)備

研磨拋光備件

自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)

精密研磨拋光機(jī)
  切割設(shè)備

切割輔助設(shè)備

切割耗材

金剛石線切割機(jī)

帶鋸切割機(jī)

外圓切割機(jī)
  箱式爐

400~1200℃箱式爐

1600~1700℃箱式爐
  薄膜制備

配件與耗材

提拉涂膜機(jī)

靜電紡絲/噴涂設(shè)備

蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

等離子鍍膜設(shè)備

流延涂覆設(shè)備
  球磨/混料制備

真空攪拌設(shè)備

混料球磨設(shè)備
  清洗系列

臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

超聲波清洗機(jī)
  點(diǎn)焊系列
  切片系列

分切設(shè)備

沖切機(jī)
  壓片/輥壓系列

冷等靜壓設(shè)備

輥壓設(shè)備

粉末壓片設(shè)備

熱壓設(shè)備
  電池安全檢測(cè)設(shè)備

其它電池安全測(cè)試設(shè)備

UN38.3

GB31485-2015動(dòng)力電池模組

GB31241-2014便攜式鋰電池
  電池測(cè)試設(shè)備

電池分析儀

電池測(cè)試儀
  鋰電池中試制備

超級(jí)電容

軟包電池制備（方形鋁殼）

柱狀電池制備

電池研發(fā)實(shí)驗(yàn)設(shè)備
  管式爐

單溫區(qū)管式爐
  其他實(shí)驗(yàn)室設(shè)備

靜置箱

真空干燥箱
  壓片/輥壓設(shè)備

冷熱等靜壓機(jī)

暫無信息

深圳市科晶智達(dá)科技有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：其他

商鋪產(chǎn)品：405條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：廖勝眉

詢價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)要描述：VTC-1RF是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型），配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索，它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。

詳細(xì)介紹

技術(shù)參數(shù)

輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 800W (包括真空泵）
等離子源	配有一13.5MHz,100W的射頻電源（采用手動(dòng)匹配）可選配300W射頻電源（自動(dòng)匹配）注意：100W手動(dòng)調(diào)節(jié)的RF（射頻）電源價(jià)格較低，但是每一次對(duì)于不同的靶材，都需要手動(dòng)設(shè)置參數(shù)才能產(chǎn)生等離子體，比較耗費(fèi)時(shí)間。300W自動(dòng)匹配的RF（射頻）電源，價(jià)格較昂貴，但比較節(jié)約時(shí)間。（點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）
磁控濺射頭	一個(gè)1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接靶材尺寸: 直徑為25.4mm,大厚度3mm 一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上濺射頭所需冷卻水：流速10L/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16L/min的循環(huán)水冷機(jī)）同時(shí)可選配2英寸濺射頭選配2英寸濺射頭靶材尺寸：直徑為50.8mm，大厚度6mm
真空腔體	真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高純石英制作密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作，采用硅膠密封圈密封一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體真空度：<1.0×10^-² Torr （采用雙極旋片真空泵） <5×10^-5 torr （采渦旋分子泵）
載樣臺(tái)	載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻）并可加熱載樣臺(tái)尺寸：直徑50mm （大可放置2英寸的基片）旋轉(zhuǎn)速度：1 - 20 rpm 樣品臺(tái)的MAX加熱溫度為700℃(短期使用，恒溫不超過1小時(shí))，長(zhǎng)期使用溫度500℃ 控溫精度+/- 10℃
真空泵	我公司有多種真空泵可選，請(qǐng)點(diǎn)擊圖片，或是致電我公司銷售
薄膜測(cè)厚儀	一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證	一年質(zhì)保期，終生維護(hù) CE認(rèn)證
外形尺寸
使用注意事項(xiàng)	這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜，所以并不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣，建議用5%H2+95 %N2對(duì)真空腔體清洗2-3次，可有效減少真空腔體中的氧含量請(qǐng)用純度大于5N的Ar來進(jìn)行等離子濺射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后，再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)