電子工業(yè)超純水設(shè)備工藝及特點
電子工業(yè)制備超純水設(shè)備的工藝大致分成以下3種：
1、采用離子交換樹脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原?rarr;多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點
電子工業(yè)超純水設(shè)備特點
電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機
系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。
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電子工業(yè)用超純水的應(yīng)用領(lǐng)域
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水;
3、實驗室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電表面拋光處理;
5、光電子產(chǎn)品;
6、其他高科技精微產(chǎn)品;
電子工業(yè)用超純水使用要求
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成
電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
特殊電子超純水用兩級反滲透制取
電子工業(yè)超純水處理設(shè)備 采用兩級反滲透主機加EDI
制取電子工業(yè)超純水處理設(shè)備 制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程
電子行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：
1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸?rarr;沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
三種制備電子工業(yè)用超純水的工藝比較，目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進行不同組合搭配衍生而來。
現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面：
1、種采用離子交換樹脂其優(yōu)點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經(jīng)常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環(huán)境有一定的破壞。
2、第二種采用反滲透作為預(yù)處理再配上離子交換設(shè)備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設(shè)備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。
3、第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前制取超純水，用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
電子行業(yè)超純水設(shè)備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計算機硬盤、線路板等工藝所需的純水和超純水制備。在嚴(yán)格執(zhí)行ISO-9001國際質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)的前提下，采用*的反滲透膜元件。壓力容器和高壓泵、配以合理而又高效的前處理設(shè)備及后處理設(shè)備，使產(chǎn)品出水符合各類電子行業(yè)生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的超純水?？刂葡到y(tǒng)選用PLC程序控制，可實現(xiàn)自動起停、加藥及沖洗，自動監(jiān)測各種運行參數(shù)，并可實現(xiàn)運行參數(shù)的儲存及打印廣泛適用于： 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學(xué)試劑光導(dǎo)纖維、光盤等。
