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低溫等離子廢氣處理設(shè)備

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更新時(shí)間：2024-11-13 17:18:29瀏覽次數(shù)：43次

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滄州嘉辰環(huán)保機(jī)械設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

低溫等離子廢氣處理設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)：技術(shù) ，工藝簡(jiǎn)潔：開機(jī)后，即自行運(yùn)轉(zhuǎn)，受工況限制非常少，無(wú)需專人操作，除臭率可達(dá)。...

詳細(xì)介紹

制藥、印染、制造、化工、化纖等行業(yè)在運(yùn)作過程中會(huì)產(chǎn)生大量揮發(fā)性污染物(VOCs)傳統(tǒng)的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒法等（詳見：廢氣處理組合工藝），對(duì)于低濃度的VOCs很難實(shí)現(xiàn)，而光催化降解VOCs又存在催化劑容易失活的問題，利用低溫等離子體處理VOCs可以不受上述條件的限制，具有潛在的優(yōu)勢(shì)。

低溫等離子廢氣處理設(shè)備已經(jīng)還廣泛的應(yīng)用于環(huán)境保護(hù)、包裝、紡織、塑料制品、汽車制造、電子設(shè)備制造、家電制造、計(jì)算機(jī)制造、手機(jī)制造、生物材料、衛(wèi)生材料、器皿、、環(huán)保設(shè)備、石油氣管道、供暖管道、化工子、半導(dǎo)體、航空航天等行業(yè)中。

低溫等離子廢氣處理設(shè)備工藝概述

低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)，當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí)，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個(gè)體系呈現(xiàn)低溫狀態(tài)，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到降解污染物的目的。

DBD等離子體反應(yīng)區(qū)富含的物質(zhì)，如電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等，廢氣中的污染物質(zhì)可與這些具有較量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，使污染物質(zhì)在的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，并發(fā)生后續(xù)的各種反應(yīng)以達(dá)到講解污染物的目的。與傳統(tǒng)的電暈放電形勢(shì)產(chǎn)生的低溫等離子技術(shù)相比較，DBD等離子體技術(shù)放電量是電暈放電的50倍，放電密度是電暈放電的130倍。所以，傳統(tǒng)低溫等離子體技術(shù)只能用于室內(nèi)空氣異味治理，與其他低溫等離子體技術(shù)相比較，DBD等離子體技術(shù)是用于工業(yè)化工藝廢氣治理的技術(shù)。

等離子體去除污染物的基本過程

過程一：電子的直接轟擊

過程二：O原子或臭氧的氧化

O2+e→2O

過程三：OH自由基的氧化

H2O+e→OH+H

H2O+O→2OH

H+O2→OH+O

過程四：分子碎片+氧氣的反應(yīng)

低溫等離子廢氣處理設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)：

1、技術(shù) ，工藝簡(jiǎn)潔：開機(jī)后，即自行運(yùn)轉(zhuǎn)，受工況限制非常少，無(wú)需專人操作，除臭率可達(dá)。

2、節(jié)能：無(wú)機(jī)械設(shè)備，空氣阻力小，耗電量約為0.003kw/m3廢氣。