氣相氧化鋁高剪切分散機(jī),納米氧化鋁高剪切分散機(jī),氧化鋁高剪切均質(zhì)分散機(jī),節(jié)能燈氧化鋁高剪切分散機(jī)

氣相法氧化鋁產(chǎn)品具有許多特殊的物理化學(xué)特性，例如，納米級顆粒，高純度，低含水量，這些特性都成為當(dāng)今高質(zhì)量熒光燈涂層解決方案中至關(guān)重要的一部分。氧化鋁反射透過熒光粉層的紫外光，使其繼續(xù)激發(fā)熒光粉，提高了熒光燈的發(fā)光效率，第二，氧化鋁作為有效的汞擴(kuò)散阻擋層，可將汞的用量降到低限度，能夠延長燈的使用壽命，第三，氧化鋁作為粘結(jié)劑能夠提高熒光粉和玻璃燈管之間的粘結(jié)強(qiáng)度，使熒光粉不脫落。

二、氧化鋁的核心應(yīng)用

氧化鋁具有硬度高、化學(xué)穩(wěn)定性好等優(yōu)點，已被廣泛應(yīng)用在陶瓷、無機(jī)膜、研磨拋光材料等領(lǐng)域。用作分析試劑、有機(jī)溶劑的脫水、吸附劑、催化劑、冶煉鋁的原料、耐火材料。

二、氧化鋁的分散問題

近年來，已超細(xì)氧化鋁粉體研制功能陶瓷材料和新型功能復(fù)合材料受到人們的廣泛關(guān)注。但超細(xì)氧化鋁粉體比表面積大，表面活性高，單個超細(xì)顆粒往往處于不穩(wěn)定狀態(tài)，顆粒之間因為相互吸引而團(tuán)聚，易于失去超細(xì)粉體*的性能，因此超細(xì)氧化鋁粉體的分散，是超細(xì)氧化鋁粉體走向?qū)嵱没年P(guān)鍵。

在水溶液中，氧化鋁漿料中的亞微米機(jī)微粒由于受靜電引力等作用發(fā)生團(tuán)聚，出現(xiàn)絮凝，分層等現(xiàn)象，破壞漿料的分散穩(wěn)定性。為此漿料的分散穩(wěn)定性成為人們研究的重點。影響穩(wěn)定性的因素有很多，如：分散劑種類及用量、分散設(shè)備的選擇、粉體的粒度及表面性質(zhì)、PH值、溫度等。

當(dāng)物料工藝確定后，影響分散穩(wěn)定性的因素就是漿料中粒子的半徑，半徑越小，沉降越慢、穩(wěn)定性越高。這種情況下要提高分散穩(wěn)定性就必須選用高品質(zhì)的分散設(shè)備，來獲得更好的物料粒徑，提高分散的均勻性，*KZSD2000系列研磨分散機(jī)，*的結(jié)構(gòu)，膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備，14000rpm超高轉(zhuǎn)速，效果好、效率高。

四、氧化鋁水性漿料分散設(shè)備*

結(jié)合多家化工企業(yè)案例，我司*KZSD2000系列研磨式超高速分散機(jī)進(jìn)行氧化鋁的研磨和分散，一般可獲得超細(xì)的物料粒徑，一般為2μm左右。當(dāng)然還要看具體的物料工藝，以及原始狀態(tài)。

五、ZKE氧化鋁水性漿料分散機(jī)結(jié)構(gòu)

*水性漿料分散機(jī)，是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤，先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計的優(yōu)勢在于，粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象，所以此時分散十分重要，而砂磨機(jī)難以分散。
KZD2000系列研磨分散設(shè)備是ZKE（太倉）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三層變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

六、氣相氧化鋁高剪切分散機(jī)水性漿料分散機(jī)選型表