北京柯林沃水處理設(shè)備廠(chǎng)
主營(yíng)產(chǎn)品: 綜合水處理器 |
北京柯林沃水處理設(shè)備廠(chǎng)
主營(yíng)產(chǎn)品: 綜合水處理器 |
產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱(chēng) | |||
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TQ真空脫氣機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:供暖及制冷水循環(huán)系統(tǒng)中不可避免地會(huì)存有一些空氣,其來(lái)源為系統(tǒng)補(bǔ)水和管網(wǎng)泄漏。水中存在的空氣會(huì)對(duì)供暖及制冷水循環(huán)系統(tǒng)帶來(lái)很多不利影響,積聚 的氣體會(huì)形成氣阻、降低系統(tǒng)傳熱效率、腐蝕系統(tǒng)設(shè)備,造成系統(tǒng)產(chǎn)生噪音和氣 蝕,導(dǎo)致系統(tǒng)循環(huán)不暢,設(shè)備及管網(wǎng)的使用壽命降低,直接影響整個(gè)系統(tǒng)運(yùn)行的 安全。而柯林沃系列真空脫氣機(jī)是脫氣領(lǐng)域的*,他可*解決供暖及制冷 水循環(huán)系統(tǒng)中空氣問(wèn)題給用戶(hù)帶來(lái)的煩惱。 產(chǎn)品型號(hào):TQ 所在地:北京市 更新時(shí)間:2018-05-23 |
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純水機(jī) 簡(jiǎn)單介紹:反滲透純水機(jī)以膜分離技術(shù)為核心,集預(yù)處理技術(shù)、膜分離技術(shù)、殺菌消毒技術(shù)等現(xiàn)代工藝于一體,以?xún)?yōu)質(zhì)地下水、自來(lái)水為原水,通過(guò)預(yù)處理、膜分離、殺菌消毒等工序去除原水中的微生物、懸浮物、臭味、重金屬及其它有毒有害物質(zhì),如農(nóng)藥、染料、多環(huán)芳烴等常見(jiàn)的有機(jī)物。原水經(jīng)其處理后,出水水質(zhì)*符合自2000年3月1日起實(shí)施的強(qiáng)制性行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)CJ94-1999《飲用凈水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)》,用戶(hù)可直接飲用。 產(chǎn)品型號(hào): 所在地:北京市 更新時(shí)間:2018-05-22 |
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XZY紫外線(xiàn)消毒器 簡(jiǎn)單介紹:紫外線(xiàn)凈水儀是通過(guò)內(nèi)置紫外燈發(fā)生中心輻射波長(zhǎng)為253.7nm的短波紫外線(xiàn)對(duì)流經(jīng)反應(yīng)室的水體進(jìn)行殺菌消毒,破壞各種病毒和細(xì)菌及其它致病體中的DNA結(jié)構(gòu),使其無(wú)法自身繁殖,達(dá)到去除致病體的目的,從而解決飲用水細(xì)菌指標(biāo)的超標(biāo)問(wèn)題。 產(chǎn)品型號(hào):XZY 所在地:北京市 更新時(shí)間:2018-05-12 |
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MHW電子水處理器 簡(jiǎn)單介紹:水經(jīng)過(guò)水處理儀后,水分子在復(fù)合電場(chǎng)強(qiáng)磁的作用下聚合度降低,結(jié)構(gòu)發(fā)生變形,產(chǎn)生一系列物理化學(xué)性質(zhì)的微小彈性變化,偶極矩增大,極性增加,因而增加了水的水合能力和溶垢能力,起到防垢除垢的作用。在電磁場(chǎng)的作用下,偶極子產(chǎn)生的微電流破壞細(xì)胞賴(lài)以生存的酶系統(tǒng),從而起到殺菌滅藻的作用。 產(chǎn)品型號(hào):MHW 所在地:北京市 更新時(shí)間:2018-05-07 |
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WTS水箱消毒器 簡(jiǎn)單介紹:由于水箱及水池的水有時(shí)*停留、不循環(huán),使水中的藻類(lèi)大量繁殖,并遭受各種微生物、細(xì)菌等的污染,造成水箱及水池的二次污染非常嚴(yán)重,使水質(zhì)達(dá)不到衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)。 WTS-2A/2B系列水箱自潔消毒器,可以通過(guò)定時(shí)、定量的輸入臭氧,循環(huán)處理水箱、水池中各部位的水體,使水箱、水池以及其中的水得到有效消毒和凈化,方便而又經(jīng)濟(jì)地解決二次供水中的水質(zhì)污染問(wèn)題。 產(chǎn)品型號(hào):WTS 所在地:北京市 更新時(shí)間:2018-05-07 |
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過(guò)濾射頻電子水處理器 簡(jiǎn)單介紹:利用高頻電磁場(chǎng)對(duì)流經(jīng)其輔機(jī)管的水體進(jìn)行電強(qiáng)磁處理,改變水分子的正常排列形式、改變水分子與水中陰陽(yáng)電解質(zhì)離子的相互位置關(guān)系,并在一定的時(shí)間內(nèi)保持這種狀態(tài),從而阻止鈣、鎂等成垢離子向器壁附著,同時(shí)還可使老垢脫落 產(chǎn)品型號(hào): 所在地:北京市 更新時(shí)間:2018-05-04 |
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WH物化全程水處理器 簡(jiǎn)單介紹:物化型全程水處理器是用于循環(huán)水處理的實(shí)用新型產(chǎn)品,它通過(guò)對(duì)水系統(tǒng)的綜合處理,*解決以往化學(xué)加藥處理產(chǎn)生的懸浮物遺留問(wèn)題和物理處理方法效果不明顯問(wèn)題,可有效防止水系統(tǒng)經(jīng)常出現(xiàn)的結(jié)垢、腐蝕、生物粘泥、懸浮物堵塞問(wèn)題,是現(xiàn)今Z有效的循環(huán)水處理設(shè)備。 “物化型全程處理器"打破了水處理技術(shù)的常規(guī)理念,采用物理方法、化學(xué)方法相結(jié)合的綜合處理工藝技術(shù),以物理場(chǎng)處理為主,根據(jù)系統(tǒng)要求、補(bǔ)水水質(zhì)、環(huán)境、溫度等技術(shù) 產(chǎn)品型號(hào):WH 所在地:北京市 更新時(shí)間:2018-04-27 |
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ZX全效綜合水處理器 簡(jiǎn)單介紹:全效綜合水處理器將電式設(shè)備的防腐、防垢、殺菌、滅藻與水質(zhì)過(guò)濾功能集于一體,克服了原有設(shè)備功率小、單一化的弊病,特別在過(guò)濾、清洗單元上,選用了*的濾元結(jié)構(gòu),清洗采用強(qiáng)制刷式外力清洗,具有清洗用水量小,除污力強(qiáng),清洗壓力小,設(shè)備安裝方便等優(yōu)點(diǎn)。它具有機(jī)電一體化的設(shè)計(jì),純物理方式處理,無(wú)需化學(xué)藥劑,阻力低,流量大,運(yùn)行費(fèi)用低,管理操作簡(jiǎn)單,維護(hù)方便。 由高頻電磁系統(tǒng)、驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、主管組件 產(chǎn)品型號(hào):ZX 所在地:北京市 更新時(shí)間:2018-04-24 |
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LDW自清洗過(guò)濾器 簡(jiǎn)單介紹:水由入水口進(jìn)入過(guò)濾器,首先經(jīng)過(guò)粗濾芯組件濾掉圈套顆粒的雜質(zhì),然后到達(dá)細(xì)濾網(wǎng),通過(guò)細(xì)濾網(wǎng)濾除細(xì)小顆粒的雜質(zhì)后,清水由出水口排出。 產(chǎn)品型號(hào): 所在地:北京市 更新時(shí)間:2015-04-24 |
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JY自動(dòng)加藥裝置 簡(jiǎn)單介紹:加藥裝置是是一種具投藥、攪拌、輸送液體、自動(dòng)控制于一體的成套設(shè)備,用于需要投加緩蝕劑、阻垢劑、殺菌劑的循環(huán)水系統(tǒng),進(jìn)行水質(zhì)處理藥劑的準(zhǔn)確投加與計(jì)量。 在給水、排水處理過(guò)程中,常常投加各類(lèi)化學(xué)藥劑作為阻垢、殺菌滅藻、混凝、絮凝用,以達(dá)到凈化水的目的。這些藥劑有固體顆粒、液體,在投加過(guò)程中必須溶解、稀釋及按配比定量投加方能取得Z佳效果,所以溶藥投加裝置是水處理工程中的常用設(shè)備之一。 全自動(dòng)加藥裝置由計(jì) 產(chǎn)品型號(hào):JY 所在地:北京市 更新時(shí)間:2015-04-24 |
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FLECK軟水器 簡(jiǎn)單介紹:全自動(dòng)軟水器是利用離子交換原理來(lái)去除水中的Ca2+、Mg2+離子,以達(dá)到防垢阻垢、軟化水質(zhì)的目的,保護(hù)系統(tǒng)中其它設(shè)備的正常工作。 我公司全部采用美國(guó)“FLECK"“AUTOTROL"的多路閥控制系統(tǒng)。樹(shù)脂交換罐采用國(guó)產(chǎn)優(yōu)質(zhì)玻璃鋼、碳鋼或不銹鋼罐。再生儲(chǔ)鹽罐為PE(聚乙烯)材質(zhì)。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)精巧、簡(jiǎn)單合理,工作穩(wěn)定可靠、調(diào)節(jié)操作方便,具有免修性能,使用年限達(dá)20年以上。 產(chǎn)品型號(hào):FLECK 所在地:北京市 更新時(shí)間:2015-04-24 |
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SC旁流水處理器 簡(jiǎn)單介紹:旁流水處理器是在原有全流式基礎(chǔ)上開(kāi)發(fā)出來(lái)的,該水處理器采用疊加脈沖的低壓電場(chǎng)原理,根據(jù)水質(zhì)自動(dòng)調(diào)整處理信號(hào),采用旁流式處理。 產(chǎn)品型號(hào):SC 所在地:北京市 更新時(shí)間:2015-04-24 |
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