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優(yōu)化設(shè)計(jì)之氣氛爐2010/11/24: （技術(shù)中心-氣氛爐）1前言氣氛爐又稱鋼包爐、氣氛保護(hù)爐，通常包括一個(gè)可以抽真空充氣氛的容器及一個(gè)可置于其內(nèi)的箱式爐。氣氛爐在工業(yè)領(lǐng)域用途很廣，尤其適用于磁性材料行業(yè)磁芯的燒結(jié)，主要用于實(shí)驗(yàn)室的小試及小批量生產(chǎn)。磁芯的燒結(jié)過(guò)程對(duì)氧分壓有一定的要求，通常是抽真空后充入氮?dú)獗Ｗo(hù)進(jìn)行燒結(jié)。傳統(tǒng)氣氛爐的結(jié)構(gòu)如圖1所示，采用硅碳棒加熱，燒結(jié)溫度低，爐腔溫度均勻性差，維修工作量大，自動(dòng)化程度低，相應(yīng)的燒結(jié)產(chǎn)品檔次低，性能一致性差。隨著磁性材料行業(yè)的發(fā)展、電子設(shè)備的小型化、集成化，高性能產(chǎn)品的市場(chǎng)需求量越來(lái)越大

真空氣氛爐介紹2010/11/23: （技術(shù)中心-真空爐）與傳統(tǒng)的立式爐相比,真空氣氛爐（真空爐）是一種*實(shí)驗(yàn)設(shè)備,其適用于金屬，納米，單晶硅,多晶硅,電池等的擴(kuò)散焊接以及真空氣體保護(hù)下，是一種氣氛熱處理的高溫爐加熱設(shè)備.一般的燒結(jié)爐的用途主要就是用于燒結(jié),而真空氣氛爐卻有所不同,它主要是用于材料或化學(xué)實(shí)驗(yàn)室，在真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。真空氣氛爐廣泛應(yīng)用于高、中、低溫SK工藝，例如；納米粉體的轉(zhuǎn)相、炭納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)等等；也可適用于金屬材料的擴(kuò)散焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理。真空氣

利用管式氣氛爐快速升溫，制備硒化鋅納米晶薄膜的辦法2010/11/22: （技術(shù)中心-管式氣氛爐）利用管式氣氛爐快速升溫制備硒化鋅納米晶薄膜的方法，取單質(zhì)硒粉和單質(zhì)鋅粉按１∶１的摩爾比混合并轉(zhuǎn)入高能球磨罐中，在氮?dú)饣驓鍤獗Ｗo(hù)下球磨，使ＺｎＳｅ粉末的尺度為５～２０納米；將ＺｎＳｅ納米粉放入石英舟一端的凹槽中，硅片或石英基片放在石英舟的另一側(cè)；再將石英舟置于長(zhǎng)度大于管式爐爐體長(zhǎng)度１．５倍以上的石英管中，開啟抽氣機(jī)排氧并充入氬氣，重復(fù)三次；將石英管冷端推入管式氣氛爐中，要求５分鐘內(nèi)將石英管內(nèi)放置的ＺｎＳｅ納米粉末原料升溫到８００℃～１０００℃，使硅片或石英基片的溫度為１６０

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