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UV光解活性炭一體機環(huán)保設(shè)備可以作為酸霧凈化塔、低溫等離子體廢氣凈化設(shè)備、高能離子凈化器的末端配套設(shè)備，也可以作為中低濃度廢氣的直接處理設(shè)備

UV光解活性炭吸附一體機適用場所： 除臭設(shè)備廣泛應(yīng)用于噴漆廠除臭、橡膠廠除臭、塑料廠、油漆廠除臭、噴涂車間除臭、電子廠除臭、造紙廠除臭、電路板廠、包裝廠除臭、樹脂廠除臭、油墨廠除臭、醫(yī)藥廠除臭、飼料廠除臭、涂裝廠除臭、紡織服裝廠除臭、養(yǎng)殖屠宰廠除臭、污水泵站除臭、垃圾處理站除臭、污泥干化站除臭、防水材料廠除臭、瀝青廠除臭、電鍍廠除臭、化肥廠除臭、家具廠除臭、皮革廠除臭、煙草除臭、化工廠除臭、冷凍廠除臭、食品廠除臭、造紙廠除臭、印刷廠除臭、飼料廠除臭、香精廠除臭、污水處理廠除臭、VOC有機廢氣處理除臭、養(yǎng)龜房除臭除臭、4s店噴漆廢氣除臭、酒店除臭、商場除臭、醫(yī)院除臭、糞便處理、合成纖維、合成樹酯、工業(yè)污水、生活污水處理等行業(yè)的廢氣處理、臭氣處理、尾氣處理、異味凈化、空氣凈化、消毒殺菌等。

UV光解活性炭吸附一體機適用廢氣種類： 除臭設(shè)備適用于：、丁酮、乙酸乙酯、VOC 、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯系物、苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴、酚、硫化氫、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基等臭氣和廢氣。

　豪澋環(huán)保主要業(yè)務(wù)涉及有機廢氣處理設(shè)備、全過程除臭設(shè)備、干式化學過濾器、佑威燈管、uv光解活性炭一體機，光催化氧化設(shè)備，低溫等離子設(shè)備，高能活性氧離子集中處理裝置、堿洗塔、氨氮吹脫塔、酸霧吸收塔、污水池加蓋密封、生物除臭設(shè)備、格柵密封罩，等離子活性炭一體機，噴漆廢氣處理、污水池、工業(yè)車間臭氣處理、市政水務(wù)、城鎮(zhèn)污水處理設(shè)備等領(lǐng)域。

  等離子除臭設(shè)備

所謂等離子體是繼固體、氣體、液體三態(tài)后，列為物質(zhì)的第四態(tài)，由正離子、負離子、電子和中性離子組成，因體系中正負電荷總數(shù)相等，故稱為“等離子體”。

等離子體按粒子溫度可分為平衡態(tài)（電子溫度=離子溫度）與非平衡態(tài)（電子溫度>>離子溫度）兩類。

非平衡態(tài)等離子體電子溫度可上萬度，離子及中性離子可低至室溫，即體系表觀溫度仍很低，故稱“低溫等離子體”，一般由氣體放電產(chǎn)生。

低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來的廢氣處理新技術(shù)，低溫等離子體處理廢氣的原理為：當外加電壓達到氣體的放電電壓時，氣體被擊穿，產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在極短的時間內(nèi)發(fā)生分解，以達到降解污染物的目的。 

低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量高能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o毒無害或低毒低害物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在1eV～10eV，適當控制反應(yīng)條件可以實現(xiàn)一般情況下難以實現(xiàn)或速度很慢的化學反應(yīng)變得十分快速。其能量傳遞過程為：

電場+電子      高能電子

                            受激電子

     高能電子+分子（或原子）     受激分子   活性基因
                                                     自由基因

     活性基因+分子（或原子）      生成物+熱

     活性基因+活性基因      生成物+熱

低溫等離子技術(shù)，屬于干法處理，不需要任何吸附劑、催化劑及其他任何助燃燃料，只需采用220V或380v交流電，經(jīng)振蕩升壓裝置獲得高頻脈沖電場，產(chǎn)生高能量電子，轟擊分解廢氣中的有機分子、有毒的氣體分子。具有等特點。