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NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀

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更新時(shí)間:2024-11-19 14:29:24瀏覽次數(shù):24次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀用于對(duì)光斑尺寸 <100 µm 的 X 射線管進(jìn)行質(zhì)量保證,根據(jù) prEN 12453-6、prEN 12453-7 評(píng)估焦點(diǎn)尺寸 <100 µm 和光斑形狀

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NanoXSpot焦點(diǎn)測(cè)試儀用于對(duì)光斑尺寸 <100 µm 的 X 射線管進(jìn)行質(zhì)量保證,根據(jù) prEN 12453-6、prEN 12453-7 評(píng)估焦點(diǎn)尺寸 <100 µm 和光斑形狀

歐洲計(jì)量創(chuàng)新與研究計(jì)劃項(xiàng)目開(kāi)發(fā)了新的 NanoXSpot (NxS) 測(cè)量?jī)x,具有線組、西門(mén)子星形和孔圖,用于測(cè)量小至 100 納米的聚焦光斑

計(jì)算機(jī)斷層掃描 (CT)可以根據(jù)從物體周?chē)煌嵌扰臄z的一系列 X 射線圖像重建物體的體積數(shù)據(jù)集,這項(xiàng)技術(shù)被廣泛用于醫(yī)學(xué)中的患者診斷。此外,它還被用于航空航天和電子等行業(yè)的無(wú)損檢測(cè)、缺陷與內(nèi)部結(jié)構(gòu)的評(píng)估以及產(chǎn)品尺寸的驗(yàn)證。這些行業(yè)對(duì)檢測(cè)分辨力的要求小至納米級(jí)。

隨著電子設(shè)備的小型化變得越來(lái)越普遍,以及隨著新技術(shù)(如電動(dòng)汽車(chē))的出現(xiàn)和航空工業(yè)中輕質(zhì)化合物的使用,對(duì) 5微米或更小分辨力(大約人類(lèi)頭發(fā)絲寬度的 1/10)的 CT 測(cè)量的需求日益增加。X 射線管的光斑尺寸直接影響到測(cè)量分辨力。但是,對(duì)于5微米以下的 X 射線管光斑尺寸,沒(méi)有國(guó)1際公1認(rèn)的標(biāo)準(zhǔn)或測(cè)量方法。X 射線設(shè)備制造商采用自有的測(cè)量方法導(dǎo)致了不一致的結(jié)果。因此,研究人員正在開(kāi)發(fā)基于可溯源表征的測(cè)量?jī)x來(lái)確定光斑大小、形狀和位置的新方法,并將作為這些光斑測(cè)量的國(guó)1際公1認(rèn)標(biāo)準(zhǔn)引入。

歐洲計(jì)量創(chuàng)新與研究計(jì)劃(EMPIR)項(xiàng)目《對(duì)光斑小至100納米的 X 射線管焦斑尺寸的測(cè)量 (NanoXSpot,18NRM07)》正在開(kāi)發(fā)新的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐,以比目前更高的準(zhǔn)確度水平表征 X 射線焦斑。

 

X 射線管的質(zhì)量保證 – 光斑尺寸和形狀
一段時(shí)間后,可能會(huì)觀察到 X 射線管(尤其是納米和微焦管)目標(biāo)的燒毀使用量,這可能導(dǎo)致光斑尺寸增加。一些管制造商允許管目標(biāo)旋轉(zhuǎn)。這允許改變目標(biāo)上的焦點(diǎn)位置并提供不失真的焦點(diǎn)尺寸

NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀

NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀




NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀

NanoXSpot 測(cè)量?jī)x (NxS)

? 全新測(cè)量?jī)x設(shè)計(jì) NxS-1020 最終確定:

• 使用新開(kāi)發(fā)的算法進(jìn)行焦點(diǎn)測(cè)量和特性分析

• 全新焦點(diǎn) CT 重建算法

? 樣品支架設(shè)計(jì)便于測(cè)量?jī)x使用

? NxS 測(cè)量?jī)x上的圖案組(4 個(gè)象限):

• 不同方向的線組圖案結(jié)構(gòu),特征尺寸為 3-12 µm(Q1)

• 會(huì)聚線組圖案(Q2 和 Q3)(類(lèi)似于西門(mén)子星)

• 直徑為 5 µm 至 1 mm 的孔圖案(Q4)




NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀

重新設(shè)計(jì)的 NxS-1022b 儀表

? 樣品架設(shè)計(jì)便于使用儀表

? NxS 儀表上的圖案組(4 個(gè)象限):

• 不同方向的線組圖案結(jié)構(gòu),特征尺寸為 4-20 µm(Q1)

• 不同方向的線組圖案結(jié)構(gòu),特征尺寸為 63 µm(Q2)

• 直徑為 5 µm 至 1000 µm 的孔圖案(Q3)

• 不同方向的線組圖案結(jié)構(gòu),特征尺寸為 25-50 µm(Q4)


規(guī)格:

外形尺寸:10 mm x 10 mm 芯片尺寸(帶藍(lán)寶石玻璃蓋的支架:40 毫米 x 30 毫米 x 5 毫米)

材料

襯底:200 μm 厚硅

吸收器:8 μm 高的金
線寬/間距:公差:+/- 15%
圖形線寬 [μm]:4 個(gè)象限,每個(gè)象限 4 mm x 4 mm;2 個(gè)經(jīng)過(guò)改進(jìn)的西門(mén)子星形,具有圓孔和 5 條平行金線,線寬和間距分別為 12 μm、10 μm、8 μm、6 μm、5 μm、4 μm 和 3 μm。最小線寬:3 μm。最小孔徑:5 μm


關(guān)鍵詞:無(wú)損檢測(cè)

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