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深圳市科晶智達科技有限公司
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更新時間:2023-01-12 09:41:14瀏覽次數(shù):308次
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簡要描述:PCE-44是一款小型紫外臭氧清洗機,可用于清洗各種單晶基片,以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段,特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵
PCE-44是一款小型紫外臭氧清洗機,可用于清洗各種單晶基片,以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段,特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵(特別是碳碳鍵)。所以這兩種波長的光組合可有效地清除有機化合物。(更新時間:2018.8.17--XI)
技術參數(shù) | |
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電源 |
● 220V 50/60HZ
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紫外燈 |
● UV燈管 ● 功率:55W ● 發(fā)出光的波長:波長254nm+185nm ● 使用壽命:6000h小時 ● 照射區(qū)域:100 x 100 mm ● 光照強度:4.6 mw/cm2
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腔體 |
● 抽拉盒尺寸: 140mm*132mm*20mm ● 標配高純石英片用于盛放樣品,避免污染
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應用 |
● 去除分子級別的污染物 ● 紫外光固化粘合劑 ● 紫外光催化 ● 氧化PDMS ● 表面消毒 ● 刻蝕 ● 清洗MEMS 器件 ● 清洗各種基片,如Si, Ge, GaAs和各種氧化物單晶基片
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環(huán)境要求 |
● 僅室內(nèi)使用; 海拔高度在5,562英尺以內(nèi) ● 溫度范圍41-104華氏度 ● 大相對濕度80%,大87華氏度,104華氏度線性降至50%相對濕度 ● 主電源波動不超過標稱電壓的10% ● 污染等級2; 臭氧水平(環(huán)境)測量<45 ppb
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外形尺寸 |
● 240mm*200mm*165mm
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凈重 |
4公斤
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認證 |
CE認證
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質(zhì)保期 |
● 一年保修,終身技術支持。 特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 ● 點擊查看售后服務承諾書。
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免責聲明 |
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