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更新時(shí)間：2023-01-06 09:54:24瀏覽次數(shù)：346次
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簡(jiǎn)要描述：UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。
UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域，廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光，以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作，既避免了交叉污染，又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓，壓力施加于載物盤的中心，使整個(gè)載物盤受力均勻。通過(guò)手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制，上盤可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)，下盤作順時(shí)針旋轉(zhuǎn)，通過(guò)樣品盤的材質(zhì)不同可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過(guò)程中噪音小，具有研磨定時(shí)功能，時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止，可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人看守工作。
| 產(chǎn)品名稱 | UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī) | |||
產(chǎn)品型號(hào) | UNIPOL-1000D | |||
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來(lái)水及排水 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：無(wú) 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：不需要 | |||
主要特點(diǎn) | 1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位，可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。 2、中心加載壓力，壓力穩(wěn)定可靠。 3、性能優(yōu)良，操作簡(jiǎn)單，適用范圍廣。 | |||
技術(shù)參數(shù) | 1、電源：220V 50Hz 2、載物盤：Ø150mm 3、桃型孔：Ø25.4mm 4、磨拋盤：Ø250mm 5、載物盤（上盤）轉(zhuǎn)速：10rpm-80rpm（無(wú)級(jí)調(diào)速） 6、磨拋盤（下盤）轉(zhuǎn)速：50rpm-400rpm（增量調(diào)速，小增量10） 7、壓力：0.5kg-20kg（小增量0.5kg） | |||
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：780mm×590mm×750mm；重量：100kg | |||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 鑄鋁盤 | 2個(gè) |  |
2 | 平載物盤 | 1個(gè) |  | |
3 | 桃型孔載物盤 | 1個(gè) |  | |
4 | 磁力片 | 4片 |  | |
5 | 研拋底片 | 6片 |  | |
6 | 砂紙（240#、400#、800#、1500#） | 各2片 |  | |
7 | 拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯） | 各2片 |  | |
8 | 金剛石拋光膏（W2.5） | 1支 |  | |
可選配件 | 1、SKZD-2滴料器 2、SKZD-3滴料器 3、SKZD-4自動(dòng)滴料器 4、SKZD-5自動(dòng)滴料器 5、YJXZ-12攪拌循環(huán)泵 6、精密測(cè)厚儀 7、GPC-50A精確磨拋控制儀 8、陶瓷研磨盤 9、玻璃研磨盤 | |||
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