詳情內(nèi)容 PiPi小型等離子裝置
高頻輸出 200W,反應腔 W130×D130mm
經(jīng)濟型、.適合于研究開發(fā)用小型等離子清洗機。
特點
● 經(jīng)濟型等離子清洗機
● 簡單的等離子處理操作
● 等離子模式為RIE模式
用途
● 去除有機物
● 樹脂/膜等表面改質(zhì)
● 改善粘接效果
● 提高親水性
● 去除金屬氧化物
● 蝕刻
等離子
等離子為氣體發(fā)生電離狀態(tài)，形成帶有正電的離子及帶有負電的電子狀態(tài)。等離子為帶有高能量、反應性非常高的狀態(tài)，其容易與物質(zhì)表面進行反應的特性被廣泛使用。
等離子RIE（Reactive Ion Etching 方式）
RIE是去除物體表面的有機物污垢，同時去除無機物的.合適的清洗方式。
RIE方式為加速離子層中的陽離子，沖擊污染表面的物理性清洗方式。
規(guī)格
| 型號 | PM100 |
| 等離子方式 | RIE模式 |
| 電極構(gòu)造 | 平行平板式 |
| 高頻輸出 | Max200W |
| 頻率 | 13.56MHz |
| 電極尺寸 | W130×D130mm |
| 外形尺寸 | W438×D520×H565mm |
| 反應氣體 | Ar |
| 填充氣體 | N2或干燥空氣 |
| 反應氣體流量計 | 流量計 |
| 控制方式 | 程序控制 |
| 電源 | 單相100V |
| 真空泵（選配） | 油泵 135L/min（50Hz） |
