反滲透EDI超純水設(shè)備是采用專用RO技術(shù)設(shè)計(jì),關(guān)鍵部件、設(shè)備采用進(jìn)口產(chǎn)品,工藝*,質(zhì)量可靠,可擴(kuò)展性強(qiáng),結(jié)構(gòu)合理占地小,水利用率高,能耗低,全自動(dòng)化運(yùn)行,操作維護(hù)簡(jiǎn)單。水回收率一般可達(dá)75%以上,脫鹽率>98%。產(chǎn)水量隨進(jìn)水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化,多應(yīng)用于電子行業(yè)、核電行業(yè)、五金行業(yè)、電鍍行業(yè)、光學(xué)、科研
EDI超純水設(shè)備原理:
反滲透水處理設(shè)備(膜分離)技術(shù)的應(yīng)用使反滲透超純水設(shè)備從傳統(tǒng)的陽(yáng)離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器得到了一次進(jìn)步。
國(guó)外推廣應(yīng)用的EDI(電去離子)技術(shù),則是超純水制造技術(shù)的一次革命,從此進(jìn)入了一個(gè)無(wú)需再生化學(xué)品,而能生產(chǎn)出高達(dá)18MΩ·CM的超純水,用于半導(dǎo)體、集成電路等行業(yè)。
超純水設(shè)備工藝流程為:
1: 預(yù)處理-反滲透-純化水箱-離子交換器-紫外燈-純水泵-用水點(diǎn)
2: 預(yù)處理-一級(jí)反滲透-二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)
3: 預(yù)處理-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-用水點(diǎn)
4: 預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn)
水質(zhì)符合超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))
超純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn):
1 、零部件均采用國(guó)標(biāo)或進(jìn)口,質(zhì)量可靠。
2 、整體化程度高,易于擴(kuò)展,增加膜數(shù)量即可增加處理量。
3 、自動(dòng)化程度高,遇故障立即自停,具有自動(dòng)保護(hù)功能。
4 、脫鹽率高,可達(dá) 98 %以上。
5 、能耗低,運(yùn)行成本低。
6 、水利用率高,回收率達(dá)到 50 - 75 %。
7 、結(jié)構(gòu)合理,占地面積少。
8 、*的膜保護(hù)系統(tǒng),在設(shè)備關(guān)機(jī)時(shí)淡化水自動(dòng)將膜表面的污染物沖洗干凈,延長(zhǎng)膜壽命。
9 、系統(tǒng)無(wú)易損部件,無(wú)需大量維修,運(yùn)行長(zhǎng)期有效。
超純水設(shè)備參數(shù):
1、進(jìn)水水質(zhì):市政自來(lái)水,電導(dǎo)率≤500μs/cm
2、產(chǎn)生水質(zhì): 一級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后,產(chǎn)水電導(dǎo)率<10μS/cm(以在線儀表監(jiān)測(cè)為準(zhǔn))
二級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后,產(chǎn)水電導(dǎo)率<5μS/cm (以在線儀表監(jiān)測(cè)為準(zhǔn))
混床產(chǎn)生電阻率:≥ 10MΩ·CM
EDI系統(tǒng)產(chǎn)水電阻率:≥15MΩ·CM
核能混床產(chǎn)水電阻率:≥18MΩ·CM
3、相對(duì)濕度:≤80%、無(wú)強(qiáng)酸、強(qiáng)堿等 揮發(fā)性氣體,無(wú)強(qiáng)電磁干擾
4、安裝場(chǎng)地要求:地面設(shè)有防水層,地漏,保持排水通暢。
5、控制方式:自動(dòng)、手動(dòng)、全自動(dòng)PLC控制系統(tǒng)
6、設(shè)備系統(tǒng)脫鹽率:≥99.5%
7、工作方式:可24小時(shí)連續(xù)工作
8、反滲透設(shè)備回收率:50%-75%
設(shè)備按小時(shí)產(chǎn)水量m3/h(25℃水溫計(jì),以下同)分三類:
a) 小型設(shè)備 日產(chǎn)水量≤3m3/h
b) 中型設(shè)備 日產(chǎn)水量4~20 m3/h
c) 大型設(shè)備 日產(chǎn)水量≥20m3/h