設(shè)備名稱
氧化鋁高速剪切分散均質(zhì)機(jī),氧化鋁研磨分散設(shè)備,江蘇研磨分散設(shè)備廠家,
氣相法氧化鋁產(chǎn)品具有許多特殊的物理化學(xué)特性,例如,納米級(jí)顆粒,高純度,低含水量,這些特性都成為當(dāng)今高質(zhì)量熒光燈涂層解決方案中至關(guān)重要的一部分。氧化鋁反射透過(guò)熒光粉層的紫外光,使其繼續(xù)激發(fā)熒光粉,提高了熒光燈的發(fā)光效率,第二,氧化鋁作為有效的汞擴(kuò)散阻擋層,可將汞的用量降到低限度,能夠延長(zhǎng)燈的使用壽命,第三,氧化鋁作為粘結(jié)劑能夠提高熒光粉和玻璃燈管之間的粘結(jié)強(qiáng)度,使熒光粉不脫落。
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氧化鋁分散機(jī),隔膜電池漿料分散機(jī),比比普通的分散機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好,高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。
二、氧化鋁的研磨分散問(wèn)題
氧化鋁高速剪切分散均質(zhì)機(jī)是普通的分散機(jī)的速度達(dá)到4-5倍以上,分散乳化均質(zhì)研磨效果非常好,高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。
按照一定的配方,先預(yù)混,然后研磨分散
氧化鋁高速剪切分散均質(zhì)機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
我們將多級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將多級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。
膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
1 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
2.定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。
3. 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4. 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
5. 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
氧化鋁高速剪切分散均質(zhì)機(jī)
氧化鋁高速剪切分散均質(zhì)機(jī),是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤,先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)在于,粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象,所以此時(shí)分散十分重要,而砂磨機(jī)難以分散。
GMSD2000系列研磨分散設(shè)備是江蘇思峻機(jī)械設(shè)備有限公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三層變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
氧化鋁高速剪切分散均質(zhì)機(jī)設(shè)備參數(shù)表
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 3000 | 7,300 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
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