等離子UV光解一體機(jī)

　　一、低溫等離子除臭設(shè)備 uv光解除 臭 設(shè)備概述

　　低溫等離子除臭+UV光解一體機(jī)分為紫外線光解和等離子分解兩個(gè)區(qū)，惡臭氣體先經(jīng)等離子分解區(qū)再到UV紫外線光解區(qū)，經(jīng)多級(jí)凈化后達(dá)標(biāo)排出。

　　UV紫外線光解區(qū)：利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體，如氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、四硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC類、苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。再分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧。因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。*，臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它感激性異味有*的清除效果。有機(jī)惡嗅氣體通過本區(qū)后，凈化運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過臭氧氧化反應(yīng)。

　　低溫等離子分解區(qū)：采用了*的吸附-分解-碳化工藝技術(shù)設(shè)計(jì)，無需再生處理原料，無需專人負(fù)責(zé)，不產(chǎn)生二次污染。采用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，使其產(chǎn)生高強(qiáng)度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒級(jí)的時(shí)間內(nèi)，瞬間對(duì)經(jīng)過UV光解區(qū)進(jìn)入等離子分解區(qū)的氣體內(nèi)殘留的有害分子進(jìn)行氧化還原反應(yīng)，將廢氣中的污染物降解成二氧化碳和水及易處理的物質(zhì)。利用催化氧化劑的強(qiáng)氧化性和高吸附性，持續(xù)地對(duì)等離子體未處理盡的污染物和生成的物質(zhì)進(jìn)行催化氧化反應(yīng)，使有害廢氣經(jīng)多級(jí)凈化后終達(dá)標(biāo)排放。

　　因此，我們將低溫等離子除臭+UV光解這兩種處理方案結(jié)合起來。將等離子裝置布置在光解設(shè)備的前段，離子裝置產(chǎn)生的O3與有機(jī)廢氣混合后，流經(jīng)紫外線燈管。紫外線燈管能進(jìn)一步地觸發(fā)O3的生成，同時(shí)在燈管254nm紫外線的催化作用下，O3與有機(jī)物的反應(yīng)效能大幅提升，從而取得理想的處理效果。由于等離子裝置較紫外燈管高得多的臭氧產(chǎn)生效能，使得設(shè)備的功耗隨之降低，節(jié)能*。

低溫等離子除臭設(shè)備 uv光解除 臭 設(shè)備　

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