集成電路生產(chǎn)制造過程中經(jīng)常會用到超純水，超純水設備主要采用反滲透技術和EDI技術相結合的制水工藝，保證設備的出水水質(zhì)。

EDI設備一般以二級反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設置，EDI超純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。EDI模塊將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。一定數(shù)量的EDI單元間被格板隔開，形成濃水室和淡水室。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別穿過陰陽離子交換膜進入到濃水室而在淡水室中去除。而通過濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水。

1、采用高效反滲透加EDI方式，其流程如下(工藝)：自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性
炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng)→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水
箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點

2、采用離子交換方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱
→低壓泵→精密過濾器→陽樹脂床→陰樹脂床→陰陽樹脂混合床→微孔過濾器→用水點

3、采用兩級反滲透方式，其流程如下：自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水
箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透主機→PH調(diào)節(jié)→混合器→二級反滲透主機(反滲透膜表面帶正電荷)→
純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點

1、連續(xù)運行，產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定，容易實現(xiàn)全自動控制。
2、超純水設備無須用酸堿再生，且不會因再生而停機。
3、節(jié)省了再生用水及再生污水處理設施，產(chǎn)水率高(可達95%)。
4、設備單元模塊化，可靈活的組合各種流量的凈水設施。
5、無須酸堿儲備和酸堿稀釋運送設施，使用安全可靠，避免工人接觸酸堿。
6、安裝簡單，占地面積小，降低運行及維護成本。

電導率：2-10μS/cm（25℃）
PH值：6.5－9
水溫度：5～35℃
總硬度：<0.5ppm
有機物：<0.5 ppm,TOC為零
氧化物：≤0.05ppm
鐵、錳：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm