詳細(xì)介紹
君浩主營:反滲透設(shè)備、超純水設(shè)備、軟化水設(shè)備、超濾設(shè)備、純化水設(shè)備、礦井水處理、污水處理設(shè)備、水處理配件及耗材。目前我們已服務(wù)數(shù)千名客戶,并獲得客戶的*,歡迎您的垂詢!
電鍍涂裝反滲透設(shè)備概述
電鍍涂裝行業(yè)中,為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力,電鍍液的配制需要用電導(dǎo)率在15uS/cm以下的純水,另外在鍍件漂洗時(shí)也需用電導(dǎo)率在10uS/cm以下純水來清洗。
電鍍涂裝反滲透設(shè)備主要用于電鍍涂裝用水的純水制取,通常系統(tǒng)由預(yù)處理系統(tǒng)、超濾裝置、反滲透裝置、EDI裝置等組合而成,以滿足電鍍行業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求。
電鍍涂裝反滲透設(shè)備產(chǎn)品展示
技術(shù)原理
EDI (連續(xù)電解除鹽技術(shù)) :是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。EDI設(shè)施的除鹽率可以高達(dá)99%以上,如果在EDI之前使用反滲透設(shè)備對(duì)水進(jìn)行初步除鹽,再經(jīng)EDI除鹽就可以生產(chǎn)出電阻率高達(dá)15MΩ. CM以上的超純水。
FEDI:獨(dú)立的分段設(shè)計(jì),進(jìn)水要求低,產(chǎn)水電導(dǎo)率40us/cm以下的單級(jí)反滲透既可以滿足供水要求。使用不同的電壓驅(qū)動(dòng),對(duì)強(qiáng)弱離子分離去除,為去離子創(chuàng)造良好條件,產(chǎn)水導(dǎo)電率可達(dá)0. 1us/cm以下。濃水可回收至反滲透系統(tǒng),綜合回收率高達(dá)90%-95%。
拋光混床:一般情況用在工藝末端,用來進(jìn)一步提高產(chǎn)水水質(zhì)。采用高交換容量、充分再生、無化學(xué)析出的核子級(jí)樹脂,去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質(zhì),使水質(zhì)達(dá)到18MΩ. CM以上。
電鍍涂裝反滲透設(shè)備進(jìn)水水質(zhì)要求
電鍍涂裝反滲透設(shè)備參數(shù)
電鍍涂裝反滲透設(shè)備特性
1、產(chǎn)水水質(zhì)高,出水穩(wěn)定
2、連續(xù)不間斷制水,不因再生而停機(jī)
3、自動(dòng)化程度高,遇故障立即自停,具有自動(dòng)保護(hù)功能
4、不須酸堿再生,無污水排放,無酸堿再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲(chǔ)運(yùn)
5、*的膜保護(hù)系統(tǒng),關(guān)機(jī)時(shí)可自動(dòng)沖洗膜面污染物,延長膜使用壽命
6、能耗低,水利用率高,運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低
7、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,節(jié)省基建投資
電鍍涂裝反滲透設(shè)備細(xì)節(jié)展示圖
電鍍涂裝反滲透設(shè)備工藝流程
電鍍涂裝反滲透設(shè)備質(zhì)量嚴(yán)格把控
電鍍涂裝反滲透設(shè)備通過ISO9001、ISO14001、OHSAS18001認(rèn)證,原材料質(zhì)量層層把控,從源頭抓起。嚴(yán)格執(zhí)行成品出廠檢驗(yàn),控制產(chǎn)品內(nèi)在質(zhì)量。為保障進(jìn)廠原料和出廠產(chǎn)品質(zhì)量合格,檢驗(yàn)員嚴(yán)格執(zhí)行質(zhì)檢部各項(xiàng)管理制度及工作標(biāo)準(zhǔn),按照《檢驗(yàn)控制程序》實(shí)施檢驗(yàn)。
廠房實(shí)景展示
物流發(fā)貨展示
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