IC厭氧反應器設備工藝原理

IC即內循環(huán)厭氧反應器，相當于兩個UASB串聯使用，主要由混合區(qū)、顆粒污泥膨化去、深處理區(qū)、內循環(huán)系統(tǒng)、出水去五部分組成，核心部分由布水器、下三相分離器、上三相分離器、提升管、泥水回流管、氣液分離器、罐體及溢流系統(tǒng)組成。

IC厭氧反應器設備工藝原理

基本原理如下：兩層三相分離器人為的將整個反應區(qū)分為上、下兩個區(qū)域，下部為高負荷區(qū)域，上部為深處理區(qū)。廢水在進入IC反應器底部時，與從下三相氣液分離器回流的水混合，混合水在通過反應器下部的顆粒污泥層時，將廢水中大部分的有機物分解，產生大量的沼氣。通過下三相分離器的廢水由于沼氣的提升作用被提升到上部的氣水分離裝置，將沼氣和廢水分離，沼氣通過管道排出，分離后的廢水再回流到罐的底部，與進水混合；經過下三相分離器的廢水繼續(xù)進入上部的深處理區(qū)，進一步降解廢水中的有機物。后廢水通過上三相分離器進入分離區(qū)將顆粒污泥、水、沼氣進行分離，污泥則回流到反應器內以保持生物量，沼氣由上部管道排出，處理后的水經溢流系統(tǒng)排出。

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