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CMD2000甘草粉超細濕法膠體磨

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  • 型號 CMD2000/10
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市

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更新時間:2018-11-15 09:29:58瀏覽次數(shù):813

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產(chǎn)品簡介

生產(chǎn)能力 700-100000kg/h 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)藥工業(yè)
CMD2000甘草粉超細濕法膠體磨效率高、輕便、整機模塊結(jié)構(gòu),操作方便,可長時間運轉(zhuǎn),輕松滿足多種高要求的分散乳化實驗??稍趯嶒炇夷M在線工況進行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無分散死角等

詳細介紹

CMD2000甘草粉超細濕法膠體磨,甘草粉超細濕法研磨機,甘草粉研磨機,甘草粉濕法粉碎機,德國進口高速研磨機,甘草粉高剪切研磨機,管線式甘草粉研磨機,工業(yè)生產(chǎn)甘草粉濕法研磨機

 

IKN研磨機效率高、輕便、整機模塊結(jié)構(gòu),操作方便,可長時間運轉(zhuǎn),輕松滿足多種高要求的分散乳化實驗??稍趯嶒炇夷M在線工況進行循環(huán)或在線連續(xù)處理,具有高效均質(zhì)無分散死角等

 

甘草具有抗炎、抗bian態(tài)反應(yīng)的作用,這主要來自于甘草酸銥--甘草酸及甘草次酸鹽,還能抑制毛細血管通透性。腎上腺皮質(zhì)激素樣作用,甘草具有鹽皮質(zhì)甾醇樣作用和糖皮質(zhì)類甾醇樣作用。其激素樣作用的原理,有人認為是甘草次酸的化學結(jié)構(gòu)與腎上腺皮質(zhì)激素有相似之點,是一種直接作用,但也有人認為是間接作用,即甘草次酸抑制了腎上腺皮質(zhì)甾醇類在體內(nèi)的破壞,因而血中含量相應(yīng)增加。同時,甘草黃銅還有抑制*酶活性、清除氧目由基,其抗氧化能力與*比較接近

 

客戶原始樣品120目,希望通過高剪切研磨機能夠達到10微米以下,依肯給出了兩種方案,一種采用CMSD2000/4濕法高剪切研磨機12000rpm轉(zhuǎn)速下一遍兩遍測試效果;第二種采用依肯推出的ERX4000/4超高速濕法分散機,線速度66m/s,21000rpm轉(zhuǎn)速下一遍兩遍測試效果。目測效果是很明顯的,客戶也是比較滿意.

 

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。IKN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm,是目前設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

 

根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,依肯公司在ERS2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小.

 

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濕法研磨機的特點:

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

 

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改x方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

 

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