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IKN實驗室膠體是我司專為各大院校、科研單位和工廠實驗室所設計的一款小型分散設備，帶有轉(zhuǎn)數(shù)數(shù)字顯示，無機調(diào)速，可24小時不停機運行，運行穩(wěn)定，噪音小，操作方便，易清洗，易拆卸，是實驗室的設備之選。

實驗室膠體磨的特點 CM2000/4實驗室膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。 CM2000/4實驗室膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。 CM2000/4實驗室膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。   實驗室膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。  公司另外一項*的創(chuàng)x，就是錐體磨CMO2000系列，它的設計使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進了一步。由于這項創(chuàng)x，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。研磨間隙可以無級調(diào)節(jié)，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑。研磨頭處形成了一個具有強烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想。

膠體磨磨頭介紹：

研磨頭表面涂料一層及其堅硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理，這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑，研磨頭處形成了一個具有較強的剪切區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒徑大小的效果都很理想。

膠體磨技術(shù)優(yōu)勢：

1、只進行閥門切換，泵和磨連續(xù)運行，真正實現(xiàn)不間斷生產(chǎn) 。

2、可據(jù)用戶需要加工定制，所有型號均預留有外接接口，可擴展其功能及產(chǎn)量，既可固定式建廠生產(chǎn)也可移動式現(xiàn)場生產(chǎn)。

3、有手動/自動一體和手動兩種控制模式。

4、可生產(chǎn)超高含量的改性乳化瀝青（SBS含量≥4%，瀝青含量≥65%）。

5、可生產(chǎn)超高含量的改性瀝青（SBS含量≥12%）。

6、現(xiàn)場指導安裝、操作，提供*化、Zuixian進的生產(chǎn)工藝和配方。

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膠體磨的基本原理：
　　膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸 入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物 料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎，精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一 級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之 后，從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。

　　膠體磨是流體或半流體物料通過高速相對連動的定齒與動齒之間，使物料受到強大的剪切力，磨擦力及高頻振動等作用，有效地被粉碎、乳化、均質(zhì)、混合，從而獲得滿意的精細加工的產(chǎn)品。

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