活性炭催化劑研磨分散機(jī)，氧化鋁催化劑研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),分體式研磨分散機(jī),管線式催化劑研磨分散機(jī)

活性炭具有微晶結(jié)構(gòu)，微晶排列*不規(guī)則，晶體中有微孔(半徑小于20〔埃〕=10-10米)、過(guò)渡孔(半徑20～1000)、大孔(半徑1000～100000)，使它具有很大的內(nèi)表面，比表面積為500～1700米2/克。這決定了活性炭具有良好的吸附性，可以吸附廢水和廢氣中的金屬離子、有害氣體、有機(jī)污染物、色素等。工業(yè)上應(yīng)用活性炭還要求機(jī)械強(qiáng)度大、耐磨性能好，它的結(jié)構(gòu)力求穩(wěn)定，吸附所需能量小，以有利于再生?；钚蕴坑糜谟椭?、飲料、食品、飲用水的脫色、脫味，氣體分離、溶劑回收和空氣調(diào)節(jié)，用作催化劑載體和防毒面具的吸附劑。

催化劑具有表面效應(yīng)，吸附特性及表面反應(yīng)等特性，因此納米催化劑在催化領(lǐng)域的應(yīng)用十分廣泛。實(shí)際上，上已把納米粒子催化劑稱為第四代催化劑。我國(guó)目前在納米材料的研究應(yīng)用水平在某些方面處于世界地位，已實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化的SiO2、CaCO3、TiO2、ZnO等少數(shù)幾個(gè)品種，這些制備出來(lái)的納米材料在催化領(lǐng)域中主要用于兩個(gè)方面：一是直接用作主催化劑，二是作為納米催化劑載體制成負(fù)載型催化劑使用。

納米催化劑優(yōu)點(diǎn)

 1、粒徑小，比表面積大，催化效率高。

 2、化學(xué)反應(yīng)活性高。

 3、納米粒子分散在介質(zhì)中往往具有透明性，容易運(yùn)用光學(xué)手段和方法來(lái)觀察界面間的電荷轉(zhuǎn)移、質(zhì)子轉(zhuǎn)移、半導(dǎo)體能級(jí)結(jié)構(gòu)與表面態(tài)密度的影響。

 IKN/依肯活性炭催化劑分散設(shè)備簡(jiǎn)介

活性炭催化劑的制備可采用化學(xué)法和物理法獲得，獲得后需要進(jìn)行廣泛的應(yīng)用，也就是將納米催化劑進(jìn)行分散，分散到其他基質(zhì)中，從而更好改性、催化，形成復(fù)合型材料。納米催化劑分散，必須采用高精度的分散設(shè)備，才能均勻分散，避免物料團(tuán)聚。

活性炭催化劑研磨分散機(jī)，氧化鋁催化劑研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),分體式研磨分散機(jī),管線式催化劑研磨分散機(jī)

上海依肯研發(fā)的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來(lái)CM2000系列研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

CMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將*的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.

更可靠 采用整體式機(jī)械密封，zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用*的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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設(shè)備核心參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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