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東莞市庫寶試驗(yàn)設(shè)備有限公司

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2022-09-20 15:56:39195
參考價(jià):

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
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圖片描述:

在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中,光刻是集成電路圖案轉(zhuǎn)移的重要過程環(huán)節(jié)。涂膠的質(zhì)量直接影響光刻的質(zhì)量,涂膠過程也特別重要。在光致抗蝕劑涂覆過程中,大多數(shù)光致抗蝕劑是疏水的,而硅晶片表

圖片來源:

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