該設備由蒸發(fā)器、混合器和反應器組成。采用氧化鋁纖維耐火材料。設備技術成熟、質量可靠，溫場均勻，結構合理，30段可編程溫控系統(tǒng)，氣路選用液晶屏觸摸界面，使得操作異常簡單、方便設備的各項技術參數(shù)。
應用范圍：
廣泛應用于半導體工業(yè)中，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料等的鍍膜，該設備可在目標材料表面形成密集的HfCl4涂層.適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)保科學等領域。
產(chǎn)品參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | CVD系統(tǒng) |
| 產(chǎn)品型號 | KJ-T1600-CVD |
| 部分： 定制坩堝爐（蒸發(fā)系統(tǒng)） | |
| 使用溫度 | 超過500℃ |
| 工作區(qū)尺寸 | Φ150 x H320mm（不銹鋼內(nèi)膽的有效尺寸） |
| 坩堝 | 310S不銹鋼，形式及具體要求與客戶確認 |
| 加熱元件 | 電阻絲 |
| 升溫速率 | 0-20°C/min |
| 漏率 | 20Pa/min |
| 第二部分：定制小管式爐（混氣系統(tǒng)） | |
| 使用溫度 | 超過500℃ |
| 工作區(qū)尺寸 | Φ150 x H200mm（不銹鋼內(nèi)膽尺寸） |
| 混氣罐 | 310S 不銹鋼 |
| 加熱元件 | 電阻絲 |
| 漏率 | 20Pa/min |
| 第三部分 1600度管式爐（反應器） | |
| 溫度 | 1600℃ |
| 長期工作溫度 | 1500℃ |
| 爐管尺寸 | OD100/ID90,加熱區(qū)300mm |
| 爐管材質 | 高純氧化鋁管 |
| 加熱元件 | 硅鉬棒 |
| 漏率 | 20Pa/min |
| 真空度 | 抽真空度到-7*10-3Pa 壓力范圍不超過0.02MPa |
| 更多參數(shù)可根據(jù)需求定制 | |
1、我公司對所供設備提供質保一年保修服務（易損件除外），在保修期內(nèi)因設備質量原因造成的設備損壞或故障，均予以免費維修。保修期滿后，仍提供終身的、優(yōu)質的維修服務。
2、在設備使用過程中如遇故障的，我公司將盡快做出處理方案，確保設備正常運行。
3、我公司設提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
4、我公司技術人員可提供(產(chǎn)品安裝調(diào)試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
5、本公司可提供運輸服務，包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全（用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、隨機工具等）。
6、本公司所有產(chǎn)品均有歐盟CE質量認證。
