真空烘箱報(bào)價(jià)產(chǎn)品概述；
    真空烘箱報(bào)價(jià)的溫度分辨率為0.1℃,溫度波動(dòng)為±0.5℃。真空烘箱外殼采用科研級(jí)不銹鋼316L,內(nèi)罐采用不銹鋼316L,加熱器均勻分布于罐外壁,罐內(nèi)無(wú)電器附件和易燃易爆裝置。鋼化雙層玻璃門,對(duì)工作室內(nèi)的物品一目了然。

帶HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的真空烘箱

型號(hào):KB-Z50

電源電壓:AC 380V±10%50Hz±2%

輸入功率:4000W

溫度控制范圍:室溫+10℃-250℃溫度分辨率:0.1℃溫度波動(dòng):±0.5℃真空度:133pa容積:210L

工作室尺寸(mm):560*640*600

外形尺寸(mm):720*820*1750

裝載支架:3件

時(shí)間單位:分鐘

真空泵:國(guó)產(chǎn)好品牌,上海“慕虹”型號(hào):Dm-4,葉片油泵。

真空烘箱報(bào)價(jià)特點(diǎn):

1、外殼采用不銹鋼SUS304,內(nèi)罐采用不銹鋼316L;加熱器均勻分布于罐外壁,罐內(nèi)無(wú)電器附件和易燃易爆裝置。鋼化雙層玻璃門,對(duì)工作室內(nèi)的物品一目了然。

2、門的松緊度可以調(diào)節(jié)。硅橡膠門密封圈整體成型,保證箱內(nèi)真空度高。

3、微機(jī)智能溫控儀具有設(shè)定、測(cè)溫、雙數(shù)字顯示和PID自整定功能,能準(zhǔn)確可靠地控制溫度。

4、智能觸摸屏控制系統(tǒng)采用三菱PLC模塊,可根據(jù)不同工藝條件改變程序、溫度、真空度及各程序時(shí)間。

5、HMDS氣體封閉式自動(dòng)吸收添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能好,保證了HMDS氣體不泄漏。

6、整個(gè)系統(tǒng)采用優(yōu)質(zhì)無(wú)塵材料,適用于100級(jí)光刻室的清潔環(huán)境。

真空烘箱擴(kuò)展知識(shí)介紹

在半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中,光刻是集成電路圖形傳遞的重要過(guò)程。膠合質(zhì)量直接影響到光刻質(zhì)量,而涂布工藝尤為重要。光刻膠涂布過(guò)程中大多數(shù)光刻膠是疏水性的,而硅片表面的羥基和殘留水分子是親水性的,這導(dǎo)致光刻膠與硅片之間的附著力較差,尤其是正片光刻膠。在顯影過(guò)程中,顯影液會(huì)侵入光刻膠與硅片的交界處,容易產(chǎn)生漂移、浮膠等現(xiàn)象,導(dǎo)致光刻圖案轉(zhuǎn)移失敗。同時(shí),濕法腐蝕容易產(chǎn)生橫向腐蝕。六甲基二硅氮烷可以改善這種狀況。在硅片表面包覆HMDS,在烘箱中加熱,形成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水性改為疏水性。其疏水基團(tuán)與光刻膠結(jié)合良好,起到偶聯(lián)劑的作用。
       真空烘箱技術(shù)表；