儀器簡介:
研究開發(fā)用適合等離子清洗機
用途:
CSB/BGA/COB基板的等離子處理
有機膜和金屬氧化膜的除去
印刷電路基板的干洗
界面活性處理
主要特點:
RIE模式標配(DP切換為選購)
等離子的均應性高操作簡單的液晶觸摸屏控制面
技術參數(shù):
型號 | PDC200 | PDC210 | PDC510 |
模式 | RIE模式(DP選配) | DP模式 | DP/RIE切換方式 |
電極構造 | 平行平板電極(固定) | ||
高頻輸出功率 | MAX300W | Max 500W | |
頻率 | 13.56MHz | ||
控制方式 | 自動聯(lián)動,液晶觸摸屏控制 | ||
反應室尺寸 | 400×250×150mm | 500×300×200 | |
電極尺寸 | 250×170mm | 400×200mm | |
反應室材質 | 一次性一體成型鋁腔(防腐蝕,可對應CF4) | ||
反應氣體 | 2系統(tǒng)(Ar/O2) | ||
填充氣體 | N2/潔凈干燥空氣 | ||
反應氣體流量控制 | 流量計 | 聚合控制器 | |
真空泵 | 另行選配 | KASHIYAMA Neodry30E(排氣量500L/min) | KASHIYAMA Neodry30E(排氣量500L/min) |
氣體導入口 | 反應氣體2套,填充氣體1套 | ||
外型尺寸 | 540×600×600mm | 540×600×600mm | 700×700×700mm |
電源 | 單相AC100V 15A 50/60Hz | 三相AC100V 15A 50/60Hz |