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BTSR DY5 接頭

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  • 公司名稱(chēng)濟(jì)南友田機(jī)械設(shè)備有限公司
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  • 所  在  地濟(jì)南市
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  • 更新時(shí)間2023/6/16 17:45:34
  • 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù)721
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濟(jì)南友田機(jī)械設(shè)備有限公司主營(yíng)歐美原裝工業(yè)機(jī)械設(shè)備及其配件,儀器儀表,實(shí)驗(yàn)室器材,化學(xué)試劑,生物試劑。我們?cè)诘聡?guó),美國(guó),意大利都有長(zhǎng)期穩(wěn)定的貿(mào)易合作伙伴,攜手國(guó)際物流和清關(guān)公司,保障產(chǎn)品質(zhì)量和貨期。貨物定期發(fā)貨,原裝供應(yīng),到貨可提供報(bào)關(guān)單,原產(chǎn)地證明(原產(chǎn)地證明分兩種:廠(chǎng)家出的和商會(huì)出的。須訂貨前告知,一般會(huì)有額外費(fèi)用產(chǎn)生,請(qǐng)知悉)。因?yàn)樾湃?所以簡(jiǎn)單。濟(jì)南友田機(jī)械設(shè)備—您身邊的歐美工業(yè)配件供應(yīng)商



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在通信術(shù)語(yǔ)中,接頭是安裝在電纜與電纜之間,具有一定絕緣和密封性能,使得兩根及以上電纜連續(xù)運(yùn)行的設(shè)備。在基因工程技術(shù)中,使兩個(gè)DNA分子或一個(gè)DNA分子的兩端經(jīng)酶切可以配對(duì)再經(jīng)連接酶共價(jià)連接的序列。 現(xiàn)常用人工合成的六聚體接頭(含有一特定酶的切口),也可多個(gè)六聚體接頭連在一起,形成多聚接頭(polylinker)。
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濟(jì)南友田機(jī)械設(shè)備有限公司,主營(yíng)各種進(jìn)口工業(yè)機(jī)械設(shè)備及其配件,儀器儀表,實(shí)驗(yàn)室器材,化學(xué)試劑。公司專(zhuān)注于進(jìn)口歐美工業(yè)產(chǎn)品,各種工業(yè)配件,儀器小到工業(yè)用的螺絲,大到幾百公斤重的電機(jī)。公司現(xiàn)在美國(guó),德國(guó),意大利分別設(shè)有辦事處和庫(kù)房,采用就近采購(gòu)原則,節(jié)省了采購(gòu)成本,從而讓利于客戶(hù),保證了產(chǎn)品的質(zhì)量和貨期。

 

 

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介質(zhì)在外加電場(chǎng)時(shí)會(huì)產(chǎn)生感應(yīng)電荷而削弱電場(chǎng),原外加電場(chǎng)(真空中)與終介質(zhì)中電場(chǎng)比值即為介電常數(shù)( permittivity)又稱(chēng)誘電率,與頻率相關(guān)。介電常數(shù)是相對(duì)介電常數(shù)與真空中介電常數(shù)乘積。如果有高介電常數(shù)的材料放在電場(chǎng)中,電場(chǎng)的強(qiáng)度會(huì)在電介質(zhì)內(nèi)有可觀(guān)的下降。理想導(dǎo)體的相對(duì)介電常數(shù)為無(wú)窮大。

根據(jù)物質(zhì)的介電常數(shù)可以判別高分子材料的極性大小。通常,相對(duì)介電常數(shù)大于3.6的物質(zhì)為極性物質(zhì);相對(duì)介電常數(shù)在2.8~3.6范圍內(nèi)的物質(zhì)為弱極性物質(zhì);相對(duì)介電常數(shù)小于2.8為非極性物質(zhì)。

測(cè)量方法

編輯

相對(duì)介電常數(shù)εr可以用靜電場(chǎng)用如下方式測(cè)量:首先在兩塊極板之間為真空的時(shí)候測(cè)試電容器的電容C0。然后,用同樣的電容極板間距離但在極板間加入電介質(zhì)后測(cè)得電容Cx。然后相對(duì)介電常數(shù)可以用下式計(jì)算

εr=Cx/C0

在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下,不含二氧化碳的干燥空氣的相對(duì)電容率εr=1.00053。因此,用這種電極構(gòu)形在空氣中的電容Ca來(lái)代替C0來(lái)測(cè)量相對(duì)電容率εr時(shí),也有足夠的準(zhǔn)確度。(參考GB/T 1409-2006)

對(duì)于時(shí)變電磁場(chǎng),物質(zhì)的介電常數(shù)和頻率相關(guān),通常稱(chēng)為介電系數(shù)。 [1] 

常見(jiàn)溶劑

編輯

附常見(jiàn)溶劑的相對(duì)介電常數(shù),條件為室溫下,測(cè)試頻率為1KHz。

溫度對(duì)介電常數(shù)的影響溫度對(duì)介電常數(shù)的影響

H2O (水) 78.5

HCOOH (甲酸) 58.5

HCON(CH32 (N,N-二甲基甲酰胺)36.7

CH3OH (甲醇) 32.7

C2H5OH (乙醇) 24.5

CH3COCH3 (丙酮) 20.7

n-C6H13OH (正己醇)13.3

CH3COOH (乙酸或醋酸) 6.15

C6H6 (苯) 2.28

CCl4 (*) 2.24

n-C6H14 (正己烷)1.88

n-C4H10(四號(hào)溶劑) 1.78 [1] 

電介質(zhì)

編輯

氣體

 

相對(duì)介電常數(shù)

固體

 

相對(duì)介電常數(shù)

水蒸汽

氣態(tài)溴

氣態(tài)汞

空氣

硫化氫

真空

液態(tài)二氧化碳

甲醇

乙醇

液態(tài)氨

液態(tài)氦

液態(tài)氫

液態(tài)氧

液態(tài)氮

液態(tài)氯

煤油

*

油漆

甘油

 

1.00785

1.0128

1.000074

1.000264

1.00051

1.00058

1.00056

1.00074

1.000585

1.004

1

4.335

1.585

33.7

25.7

81.5

16.2

1.058

1.22

1.465

2.28

1.9

2~4

2.2

2.283

3.5

45.8

固體氨固體醋酸

石蠟

聚苯乙烯

無(wú)線(xiàn)電瓷

超高頻瓷

二氧化鋇

橡膠

硬橡膠

干砂

15%水濕砂(金剛石)

木頭

琥珀

蟲(chóng)膠(紫膠)

賽璐珞

玻璃

黃磷

云母

花崗石

大理石

食鹽

氧化鈹

聚氯乙烯

 

4.01~4.1

2.0~2.3

2.4~2.6

6~6.5

7~8.5

106

2~3

4.3

2.5

2.5

約2~8

2.8

2.8

3~4

3.3

4~11

5~10

4.2

5.5~16.5

6~8

6~8

8.3

6.2

7.5

9

3.1~3.5

相關(guān)解釋

編輯

"介電常數(shù)" 在工具書(shū)中的解釋?zhuān)?/p>

1.又稱(chēng)電容率或相對(duì)電容率,表征電介質(zhì)或絕緣材料電性能的一個(gè)重要數(shù)據(jù),常用ε表示。它是指在同一電容器中用同一物質(zhì)為電介質(zhì)和真空時(shí)的電容的比值,表示電介質(zhì)在電場(chǎng)中貯存靜電能的相對(duì)能力??諝夂虲S2的ε值分別為1.0006和2.6左右,而水的ε值較大,10℃時(shí)為 83.83。

2.介電常數(shù)是物質(zhì)相對(duì)于真空來(lái)說(shuō)增加電容器電容能力的度量。介電常數(shù)隨分子偶極矩和可極化性的增大而增大。在化學(xué)中,介電常數(shù)是溶劑的一個(gè)重要性質(zhì),它表征溶劑對(duì)溶質(zhì)分子溶劑化以及隔開(kāi)離子的能力。介電常數(shù)大的溶劑,有較大隔開(kāi)離子的能力,同時(shí)也具有較強(qiáng)的溶劑化能力。介電常數(shù)用ε表示,一些常用溶劑的介電常數(shù)見(jiàn)下表:

"介電常數(shù)" 在學(xué)術(shù)文獻(xiàn)中的解釋?zhuān)?/p>

1.介電常數(shù)是指物質(zhì)保持電荷的能力,損耗因數(shù)是指由于物質(zhì)的分散程度使能量損失的大小。理想的物質(zhì)的兩項(xiàng)參數(shù)值較小。

介電常數(shù)與頻率變化的關(guān)系介電常數(shù)與頻率變化的關(guān)系

其介質(zhì)常數(shù)具有復(fù)數(shù)形式,實(shí)數(shù)部分稱(chēng)為介電常數(shù),虛數(shù)部分稱(chēng)為損耗因子。通常用損耗角的正切值tanθ(損耗因子與介電常數(shù)之比)來(lái)表示材料與微波的耦合能力,損耗正切值越大,材料與微波的耦合能力就越強(qiáng)。

3.介電常數(shù)是指在同一電容器中用某一物質(zhì)為電介質(zhì)與該電容器在真空中的電容的比值。在高頻線(xiàn)路中信號(hào)傳播速度的公式如下:V=K。

4.為簡(jiǎn)單起見(jiàn),后面將相對(duì)介電常數(shù)均稱(chēng)為介電常數(shù)。反射脈沖信號(hào)的強(qiáng)度,與界面的波反射系數(shù)和透射波的衰減系數(shù)有關(guān),主要取決于周?chē)橘|(zhì)與反射體的電導(dǎo)率和介電常數(shù)。[2] 

應(yīng)用

編輯

近十年來(lái),半導(dǎo)體工業(yè)界對(duì)低介電常數(shù)材料的研究日益增多,材料的種類(lèi)也五花八門(mén)。然而這些低介電常數(shù)材料能夠在集成電路生產(chǎn)工藝中應(yīng)用的速度卻遠(yuǎn)沒(méi)有人們想象的那么快。其主要

低介電常數(shù)薄膜機(jī)械性質(zhì)量測(cè)結(jié)果低介電常數(shù)薄膜機(jī)械性質(zhì)量測(cè)結(jié)果

原因是許多低介電常數(shù)材料并不能滿(mǎn)足集成電路工藝應(yīng)用的要求。圖2是不同時(shí)期半導(dǎo)體工業(yè)界預(yù)計(jì)低介電常數(shù)材料在集成電路工藝中應(yīng)用的前景預(yù)測(cè)。

早在1997年,人們就認(rèn)為在2003年,集成電路工藝中將使用的絕緣材料的介電常數(shù)(k值)將達(dá)到1.5。然而隨著時(shí)間的推移,這種樂(lè)觀(guān)的估計(jì)被不斷更新。到2003年,半導(dǎo)體技術(shù)規(guī)劃(ITRS 2003[7])給出低介電常數(shù)材料在集成電路未來(lái)幾年的應(yīng)用,其介電常數(shù)范圍已經(jīng)變成2.7~3.1。

造成人們的預(yù)計(jì)與現(xiàn)實(shí)如此大差異的原因是,在集成電路工藝中,低介電常數(shù)材料必須滿(mǎn)足諸多條件,例如:足夠的機(jī)械強(qiáng)度(MECHANICAL strength)以支撐多層連線(xiàn)的架構(gòu)、高楊氏系數(shù)(Young's modulus)、高擊穿電壓(breakdown voltage>4MV/cm)、低漏電(leakage current<10-9 at 1MV/cm)、高熱穩(wěn)定性(thermal stability >450oC)、良好的粘合強(qiáng)度(adhesion strength)、低吸水性(low moisture uptake)、低薄膜應(yīng)力(low film stress)、高平坦化能力(planarization)、低熱漲系數(shù)(coefficient of thermal expansion)以及與化學(xué)機(jī)械拋光工藝的兼容性(compatibility with CMP process)等等。能夠滿(mǎn)足上述特性的低介電常數(shù)材料并不容易獲得。例如,薄膜的介電常數(shù)與熱傳導(dǎo)系數(shù)往往就呈反比關(guān)系。因此,低介電常數(shù)材料本身的特性就直接影響到工藝集成的難易度。

在超大規(guī)模集成電路制造商中,TSMC、 Motorola、AMD以及NEC等許多公司為了開(kāi)發(fā)90nm及其以下技術(shù)的研究,先后選用了應(yīng)用材料公司(Applied Materials)的Black Diamond 作為低介電常數(shù)材料。該材料采用PE-CVD技術(shù)[8] ,與現(xiàn)有集成電路生產(chǎn)工藝*融合,并且引入BLOk薄膜作為低介電常數(shù)材料與金屬間的隔離層,很好的解決了上述提及的諸多問(wèn)題,是已經(jīng)用于集成電路商業(yè)化生產(chǎn)為數(shù)不多的低介電常數(shù)材料之一。

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