大容量等離子清洗機

大容量等離子清洗機簡介

13.56MHz 高頻輸出的等離子清洗機，搭載 RIE·DP 雙模式。

使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡單”的臺式 高性能型號，調(diào)取數(shù)據(jù)簡單，以電子材料為中心，可對應(yīng) 多種用途。

特征：● 可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。 ● 搭載高精度適配器，高性能RF 電源。 ● 可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。

用途：硅晶圓的灰化及蝕刻 ● 基板表面污垢處理 ● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理 ● 半導(dǎo)體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗 ● 自然氧化膜·有機物去除 ● 界面活性處理 ● 表面污染物去除

規(guī)格 型號 V1000 V1000X V1000XS 等離子模式 DP/RIE 高頻電源 13.56MHz 輸出功率 Max1000W Max1000 & 1500W 有效電極尺寸 W280×D280mm W300×D300mm W400×D375mm 電極 平行平板 2段電極（獨立） 平板（多目的） 反應(yīng)氣體 聚合控制器2系統(tǒng)（填充氣路另行安裝） 真空泵（標(biāo)配） 約1000L/min 約1500L/min 1000 & 1500L/min 安全裝置 門檢測開關(guān)、聯(lián)鎖機構(gòu)、緊急停止開關(guān)、溫度過升防止器等