納米膠體磨，納米超高速膠體磨，德國納米膠體磨，納米立式膠體磨，高剪切納米膠體磨，14000轉(zhuǎn)納米膠體磨，10000轉(zhuǎn)以上納米膠體磨

IKN納米膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開發(fā)了一款CMS2000超高速膠體磨，轉(zhuǎn)子的線速度可以達到40M/S。研磨分散效果更好，研磨粒徑分布更小。

納米膠體磨的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 

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CMS2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     膠體磨內(nèi)部結(jié)構(gòu)及分析：
　　粉碎室設(shè)有三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三層為超微磨碎區(qū)，通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙，能有效地達到所需的超微粉碎效果（也可循環(huán)加工）。

混合區(qū)：首先將物料通過混合攪拌裝置進行高速混合，在混合過程中用螺旋混合漿葉使物料在高速運轉(zhuǎn)中的到充分混合均質(zhì)后送料給下道工藝；

剪切區(qū)：物料進入剪切區(qū)后，由于上道工序只把物料進行混合，沒有把物料進行大顆粒破碎，這個問題由高剪切機來完成，該剪切區(qū)由三層數(shù)百條刀槽組成，將大的粘團結(jié)塊等易碎顆粒進行剪切破碎。

研磨區(qū)：研磨區(qū)是由凹凸膠體磨組成，轉(zhuǎn)定子切有許多中齒及細齒組成，將已剪切的小顆粒進行深化研磨，研磨時可調(diào)距離為0.01~3mm；

三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

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